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德国MEMS回路形成用光源紫外线灯

更新时间:2025-11-14

制造厂家:ORCMANUFACTURINGCO.,LTD产品名称:超高压汞灯(Super-hightpressuremercurylamp)型号:ONL-12001适用设备:FX-66S主要波长分布:365nm/405nm/436nm曝光设备功率:12KW灯管结构:由灯座,阴阳极,石英球体,稀有气体,液体汞等要素构成发光原理:灯管在高温,高压,多种特殊气体的环境下,电子和汞原子相互碰撞,发出多种波长的紫外线光。用途:液晶显示面板制作工厂,TFTArrayPhoto黄光部门曝光设备的光源.交货周期:30天紫外线之光,半导体未来。德国MEMS回路形成用光源紫外线灯

分辨率为1.5μm的“fx-903m”尼康开发出了2款支持第4代玻璃底板(尺寸为730mm×920mm)的中小尺寸液晶面板用曝光装置。包括生产率比原机型提高10%的“fx-803m”以及分辨率增至1.5μm的“fx-903m”。支持手机及车载用中小尺寸液晶面板的高精细化和高性能化。计划4月开始受理订单。采用步进曝光方式,使用尺寸150mm×150mm、厚度约6mm的光罩,可实现高精度的对准曝光。“fx-903m”通过增大i线镜头的直径、降低像差,实现了1.5μm的分辨率。30个镜头的制程时间均为61秒。另外,在用于便携设备的平板显示器(fpd)技术方面,405nm紫外线灯UV-LED-CS01我们的紫外线灯可降低能源消耗和运营成本,提高生产效率和产品质量.

工件台为光刻机的一个关键,由掩模样片整体运动台(XY)、掩模样片相对运动台(XY)、转动台、样片调平机构、样片调焦机构、承片台、掩模夹、抽拉掩模台组成。其中,样片调平机构包括球座和半球。调平过程中首先对球座和半球通上压力空气,再通过调焦手轮,使球座、半球、样片向上运动,使样片与掩模相靠而找平样片,然后对二位三通电磁阀将球座和半球切换为真空进行锁紧而保持调平状态。样片调焦机构由调焦手轮、杠杆机构和上升直线导轨等组成,调平上升过程初步调焦,调平完成锁紧球气浮后,样片和掩模之间会产生一定的间隙,因此必须进行微调焦。另一方面,调平完成进行对准,必须分离一定的对准间隙,也需要进行微调焦。抽拉掩模台主要用于快速上下片,由燕尾导轨、定位挡块和锁紧手轮组成。承片台和掩模夹是根据不同的样片和掩模尺寸而进行设计的。

i线步进式光刻机NSR-SF155适用于半导体器件的制造。性能:Resolution分辨率≦280nm,NA0.62,Exposure light source曝光光源i-line(365nmwavelength),Reductionratio缩小倍率1:4Maximumexposurefield,曝光范围26mm×33mm,Overlay重合精度≦25nm,Throughput产出≧200wafers/hour(300mmwafer,76shots),也可用于200mmwafer。采用悬吊投影镜头、减轻震动的“天钩构造”。通过高速运转的晶圆工作台,实现了每小时200片以上300mm晶圆的高产出。●超高产出采用了适于步进式光刻机的新平台“天钩构造”,同时晶圆工作台可高速运转,从而大幅度降低了振动,并实现了高产出。达到了每小时200片以上300mm晶圆的超高产出。高重合精度采用了“天钩构造”与配重物。并重新配置了空调管路,有利于工作室内的散热。实现了25nm以下的重合精度。使用ORC制作所生产的7.5KW超高压汞灯,对应型号:NLi-7500AL2。在黑暗中寻找光明,超高压汞灯、金属卤素灯,紫外线灯为你指明方向。

扫描步进投影曝光(Scanning-Stepping Project Printing)。90年代末至今,用于≤0.18μm工艺。采用6英寸的掩膜板按照4:1的比例曝光,曝光区域(Exposure Field)26×33mm。优点:增大了每次曝光的视场;提供硅片表面不平整的补偿;提高整个硅片的尺寸均匀性。但是,同时因为需要反向运动,增加了机械系统的精度要求。d. 高精度双面:主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件、薄膜电路、电力电子器件的研制和生产。高精度特制的翻版机构、双视场CCD显微显示系统、多点光源曝光头、真空管路系统、气路系统、直联式无油真空泵、防震工作台等组成。适用于φ100mm以下,厚度5mm以下的各种基片的对准曝光。i线步进式光刻机NSR-2005i10用于半导体器件制造。使用ORC制作所高压汞灯,功率2KW,型号:NLi-2001AL。彩色滤光片回路形成用光源紫外线灯5KW

i线步进式光刻机NSR-SF150,用于半导体器件制造。使用ORC高压汞灯,功率7.5KW,型号:NLi-7500AL2D。德国MEMS回路形成用光源紫外线灯

实验室用小型UV紫外线照射设备

设备型号:QRU-2161-D

用途:光阻材料固化,粘着剂固化,封装胶固化,油墨胶固化,框胶材料固化。

照射装置构成:由灯箱和电源构成。

光源:汞灯 。

功率:300W,500W,800W.

特长:操作简单,小型化,轻量化,可手持,节能。

製品仕様:使用UV汞灯作为光源,光源主要波长为365nm,照度为30mW/cm2.

反射镜:黄金反射镜

冷却:风冷

照射面积:120×130mm

灯箱尺寸:180(W) × 250(D) × 212(H) mm

电源尺寸:300(W) × 370(D) × 395(H) mm 德国MEMS回路形成用光源紫外线灯

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